УФ лампы могут быть использованы для полимеризации фото чувствительных полимеров (фотополимеры):
- фоторезисты
- эпоксидные компаунды
- силиконы и силиконовые компаунды
- акриловые клея и герметики
- анаэробные герметики с дополнительной активацией от УФ облучения
- полиуретановые состав
- чернила
- паяльные и временные защитные маски
- лаки и защитные покрытия для печатных плат
г. Москва, Нагорный проезд д.7 стр. 1
Пн-Пт: 9:00-18:00 Сб-Вс: выходной